乐鱼网页版-登录页面可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺化合物靶材。常用参数：靶材纯度：99.99% 制备工艺：热等静压、常温烧结等靶材形态：平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶圆靶尺寸：φ25.43mm、φ503mm、φ50.84mm、φ603mm、φ76.23mm、φ804mm、φ101.65mm、φ152.46mm 尺寸可定制方靶尺寸：50503mm、1001004mm、3003005mm 尺寸可定制绑定服务：陶瓷靶材亦可提供铜背靶铟焊绑定服务，提高陶瓷靶材导电导热性，提高使用效率包装方式：真空包装


化学式	品名	纯度（%）	致密度	适用设备
BN	氮化硼靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
AlN	氮化铝靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
Si3N4	氮化硅靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
TiN	氮化钛靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
TaN	氮化钽靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
ZnS	硫化锌	4N	＞80%	磁控溅射设备
MoS2	二硫化钼靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
SnS2	二硫化锡靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
WS2	二硫化钨靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
CdS	硫化镉靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
B4C	碳化硼靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
HfC	碳化铪靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
WC	碳化钨靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
Mo2C	碳化钼靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
AlB2	硼化铝靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
TiC	碳化钛靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
BC	碳化硼靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
SiC	碳化硅靶材	2N5	＞80%	磁控溅射设备
LiTiO3	钛酸锂靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
LiTaO3	钽酸锂靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
GST225	锗锑碲靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
Sb2S3	硫化锑靶材	3N	＞80%	磁控溅射设备
In2Se3	硒化铟靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
InSe	硒化铟靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
LiTiO3	钛酸锂靶材	3N	＞80%	磁控溅射设备
LiTaO3	钽酸锂靶材	3N	＞80%	磁控溅射设备
LiCoO2	钴酸锂靶材	3N	＞80%	磁控溅射设备
SrTiO3	钛酸锶靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
BaTiO3	钛酸钡靶材	3N5	＞80%	磁控溅射设备
Li0.35La0.57TiO3	钛酸镧锂靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
（Ca10(PO4)6(OH)2）	羟基磷灰石靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
Y3Fe5O12	YIG 靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
LaF3	氟化镧靶材	3N	＞80%	磁控溅射设备
NaF	氟化钠靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
CaF2	氟化钙靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
BaF2	氟化钡靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
MgF2	氟化镁靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
KF	氟化钾靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
CeF3	氟化铈靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
SrF3	氟化锶靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
NdF3	氟化钕靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
DyF3	氟化镝靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
SmF3	氟化钐靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
YbF3	氟化镱靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
YF3	氟化钇靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
ErF3	氟化饵靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
ZnSe	硒化锌靶材	4N	＞80%	磁控溅射设备
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