乐鱼网页版-登录页面可提供多种成分、多种尺寸、多种工艺金属单质靶材。常用参数：靶材纯度：99.7%、99.9%、99.95%、99.99%、99.999%、99.9999% 制备工艺：热等静压、真空熔炼等靶材形态：平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶圆靶尺寸：φ25.43mm、φ503mm、φ50.84mm、φ603mm、φ76.23mm、φ804mm、φ101.65mm、φ152.46mm 尺寸可定制方靶尺寸：50503mm、1001004mm、3003005mm 尺寸可定制包装方式：真空包装








化学式	品名	纯度（%）	熔点(℃)	密度(g/cm³)	制备方法	适用设备
Ag	银靶材	4N,5N	961	10.49	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Al	铝靶材	3N,4N,5N,6N	660	2.7	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Au	金靶材	4N,5N	1062	19.32	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
B	硼靶材	2N,3N	2300	2.31	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Bi	铋靶材	4N	271.4	9.79	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
C	石墨靶材	4N	3652	2.28	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cd	镉靶材	5N	321.1	8.65	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Co	钴靶材	3N5	1495	8.9	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cr	铬靶材	3N5	1890	7.2	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Cu	铜靶材	3N5,4N5,5N,6N	1083	8.92	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Fe	铁靶材	3N5	1535	7.86	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ge	锗靶材	5N,6N	937	5.35	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
In	铟靶材	4N5	157	7.3	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mg	镁靶材	3N5	651	1.74	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mn	锰靶材	2N7	1244	7.2	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Mo	钼靶材	3N5	2617	10.22	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Nb	铌靶材	3N5	2468	8.55	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ni	镍靶材	3N,4N,5N	1453	8.9	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pb	铅靶材	4N,5N,6N	328	11.34	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pd	钯靶材	3N5	1555	12.02	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pt	铂靶材	4N	1774	21.5	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Rh	铑靶材	3N5	1955	12.5	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ru	钌靶材	3N5	2310	12.3	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sb	锑靶材	4N,5N	630.7	6.68	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sc	钪靶材	4N	1814	2.98	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Se	硒靶材	4N,5N	217	4.28	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Si	硅靶材	5N,6N	1410	2.42	特殊烧结	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sn	锡靶材	4N,5N,6N	232	7.75	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ta	钽靶材	3N5	2996	16.60	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Te	碲靶材	4N,5N,6N	425	6.25	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ti	钛靶材	3N,4N,5N	1675	4.5	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
V	钒靶材	3N	1919	6.11	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
W	钨靶材	3N5	3410	19.3	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Y	钇靶材	3N	1522	4.47	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Zn	锌靶材	3N,4N,5N	419	7.14	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Zr	锆靶材	4N	1477	6.4	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Hf	铪靶材	2N5,3N5	2233	13.31	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Re	铼靶材	3N5	3180	21.02	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ir	铱靶材	3N5	2410	22.56	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
La	镧靶材	3N	921	6.17	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ce	铈靶材	3N	799	6.7	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Sm	钐靶材	3N	1072	7.54	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Eu	铕靶材	3N	822	5.26	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Gd	钆靶材	3N	1311	7.9	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Tb	铽靶材	3N	3230	8.22	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Dy	镝靶材	3N	1412	8.55	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Er	铒靶材	3N	1522	8.8	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Yb	镱靶材	3N	824	6.98	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Lu	镥靶材	3N	1663	9.84	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Pr	镨靶材	3N	931	6.77	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Nd	钕靶材	3N	1016	7.01	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
Ho	钬靶材	3N	1470	8.8	真空熔炼	磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜
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